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基片与靶材是光学镀膜中不可或缺的两个要素，它们共同存在于真空腔中，进行着复杂而精密的薄膜制备过程。在蒸发镀膜技术中，靶材被加热，使得表面的原子团或离子以蒸发形式释放出来，并沉积在基片表面。这个过程并非一蹴而就，而是经历了从散点到岛
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